一种连续渐变槽深的波导光栅制作方法

本发明涉及波导光栅，具体涉及一种连续渐变槽深的波导光栅制作方法，对所使用的离子束在工作平面内的离子束流密度分布进行精确测量和标定；建立一个关联目标槽深曲线、离子束流密度分布和扫描速度的协同控制模型，将刻蚀深度与离子束总剂量关联，通过动态调控基底相对于离子束的扫描速度，来精确控制波导光栅上每一点接收到的离子束总剂量，实现对槽深分布的精准控制；基于协同控制模型，结合设定的目标槽深曲线和标定的离子束流密度分布，求解目标槽深曲线对应的扫描速度；基于求解的扫描速度进行离子束刻蚀，最终在波导光栅上形成与目标槽深曲线精确对应的连续渐变槽深；本发明能够有效克服难以制作高精度连续渐变槽深的波导光栅的缺陷。