一种集成工业大模型的智能制造工艺优化方法及系统

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推荐专利
一种集成工业大模型的智能制造工艺优化方法及系统
申请号:CN202511298226
申请日期:2025-09-11
公开号:CN120975333A
公开日期:2025-11-18
类型:发明专利
摘要
本发明涉及半导体制造技术领域,具体地说,涉及一种集成工业大模型的智能制造工艺优化方法及系统;实现光刻剂量、蚀刻速率、薄膜厚度等工艺参数的动态最优组合求解;实时生成设备操作指令及异常干预策略,提升操作的准确性和及时性;进行跨工序的协同调度及瓶颈预测,优化整体生产流程,最终提高半导体制造的良率、效率和柔性。
技术关键词
工艺优化方法 光刻机控制系统 工业 调度优化模型 参数 设备控制系统 时序 符号结构 推理机制 人机协作 工艺优化系统 表面缺陷密度 光刻胶成像 系统性缺陷 多头注意力机制 半导体 物理 热力图 生成对抗网络 闭环
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沪ICP备2023015588号