光刻胶三维形貌的坏点检测方法、介质、产品及设备

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正文
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光刻胶三维形貌的坏点检测方法、介质、产品及设备
申请号:CN202511300936
申请日期:2025-09-11
公开号:CN120928656A
公开日期:2025-11-11
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种光刻胶三维形貌的坏点检测方法、介质、产品及设备。其中上述方法包括:在待检测设计版图的版图图形中筛选得到训练图形;利用预先建立的物理仿真模型对训练图形进行仿真,得到光刻胶三维形貌;从光刻胶三维形貌中提取光刻胶顶部仿真轮廓;使用训练图形及其对应的光刻胶顶部仿真轮廓进行训练,得到光刻胶坏点检测模型;利用光刻胶坏点检测模型对设计版图进行光刻胶三维形貌坏点检测,得到设计版图中与光刻胶三维形貌相关的潜在坏点区域。通过此方法,一方面利用物理仿真模型获取准确的训练数据,另一方面利用光刻胶坏点检测模型对全芯片进行快速检测,这样既可以保证光刻胶三维形貌坏点检测的准确性,又可以提高坏点检测效率。
技术关键词
坏点检测方法 光刻胶 仿真模型 版图图形 轮廓 晶圆切片 扫描电镜 物理 特征点 处理器 数据 计算机程序产品 参数 光刻工艺 计算机设备 框架 可读存储介质 存储器 偏差
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