一种图形占空比设计方法、系统

本发明涉及波导器件设计仿真技术领域，具体涉及一种图形占空比设计方法、系统。包括步骤：获取待仿真对象的一类约束条件，待仿真对象内设置有至少一个第一波导图案，一类约束条件包括：第一波导图案的图形占空比；根据待仿真对象的类型选择二类约束条件，二类约束条件包括用于描述待仿真对象的规格的辅助参数；根据一类约束条件和二类约束条件构建仿真约束模型；采用电磁学仿真方法对仿真约束模型进行至少一个轮次的仿真，以得到仿真约束模型的设计评估结果，设计评估结果包括：用于定义待仿真对象的光学性能的至少一个仿真解。本发明选择对图形占空比进行优化设计，以减小波导器件在纳米压印过程中的工艺实施难度。