基于图像分割和面积规划的并行加工复杂微纳结构方法

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基于图像分割和面积规划的并行加工复杂微纳结构方法
申请号:CN202511318411
申请日期:2025-09-16
公开号:CN120828201A
公开日期:2025-10-24
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于图像分割和面积规划的并行加工复杂微纳结构方法,该方法先将二值化图案平均分割为若干小图案并确定中心坐标;再将小图案划分为若干区域,计算灰度为 1 的像素总数,按像素量补偿区域后,从各区域取一个像素组成像素点集;接着关联焦面光斑与像素点集,通过相位恢复算法得出相位全息计算图;随后搭建飞秒微加工光路系统,调节激光能量至阈值;再依据小图案中心坐标移动样品,加载全息图生成光斑点集进行改性加工;最后重复移动加工步骤,完成所有小图案加工,得到与原图案对应的微纳结构。此方法解决了加工面积受限、焦斑数量不一致的问题,实现了大面积复杂微纳结构的高效、一致性加工。
技术关键词
微纳结构 像素点 图案 图像分割 相位恢复算法 光路系统 斑点 二分之一波片 空间光调制器 滤波系统 工业照相机 三维移动样品台 GS算法 规划 飞秒激光器 飞秒激光光路 闪耀光栅 光斑
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