一种确定光刻工艺窗口的方法

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一种确定光刻工艺窗口的方法
申请号:CN202511406845
申请日期:2025-09-29
公开号:CN120871557A
公开日期:2025-10-31
类型:发明专利
摘要
一种确定光刻工艺窗口的方法,该方法包括:获取光刻版图和光刻工艺信息,基于所述光刻版图和所述光刻工艺信息建立光学模型;基于所述光学模型对所述光刻版图中预设的标准监测图形进行仿真,以得到最佳曝光参数;基于所述最佳曝光参数和所述光学模型,对所述光刻版图中的多个候选图形进行仿真,得到所述多个候选图形的仿真工艺窗口;基于所述仿真工艺窗口确定所述多个候选图形中的工艺热点图形;基于所述标准监测图形和所述工艺热点图形进行线上量测,以得到所述标准监测图形和所述工艺热点图形的共同工艺窗口。本发明通过光刻模型仿真减少线上量测的工作量,并提高工艺窗口监测的准确性。
技术关键词
光刻工艺窗口 光刻版图 仿真工艺 热点 执行光刻工艺 光刻模型 参数 尺寸 锚点 工作量
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