光学邻近校正方法、电子设备及存储介质

本公开涉及光学邻近校正方法、电子设备及存储介质。该方法包括：确定由初始版图切分成的子版图中较高优先级的第一子版图中图形轮廓和较低优先级的第二子版图中与第一子版图相邻的预定范围内图形轮廓的切割位置，以将各个图形轮廓切割成多个第一可移动线段和多个第一可移动点；迭代地偏移第一可移动线段和第一可移动点，直至最终偏移第一偏移量时将第一子版图校正为第一校正子版图；基于切割位置对第二子版图的图形轮廓进行偏移以生成第二校正子版图。本公开的方案能显著改善版图边界处的不连续现象。