一种离子源清洗装置及清洗方法

本发明公开一种离子源清洗装置及清洗方法，清洗装置包括喷枪，喷枪第二喷口、第一喷口可选择性开启或封闭；喷洗仓内设有置物网和集液漏斗，所述集液漏斗底部连接出液管；输送管道连接所述出液管与所述喷枪的进液管。本发明通过喷枪的多档位设计，配合第一喷口和第二喷口的切换，能够精准地对离子源部件的表面、内壁及小孔进行清洗，实现全方位的清洗效果；同时，结合喷洗仓、输送管道等结构，实现氧化铝浆的循环利用，整个清洗过程无需人工手动擦拭，清洗时间缩短至30~40分钟，显著提高了清洗效率，还降低了挥发性有机溶剂对分析人员健康的危害风险，有效解决了现有技术中存在的清洗效率低、不彻底以及对操作人员存在健康威胁的问题。