摘要
本申请公开了一种抗热衰红光Micro LED外延结构及其制备方法,所述外延结构从下至上依次包括衬底层、n型缓冲层、n型刻蚀阻挡层、n型欧姆接触层、n型限制层、量子阱结构、p型间隔层、p型电子阻挡层及p型欧姆接触层;其中量子阱结构由1–5对InGaP阱层和三段式p型AlGaInP势垒层交替构成,三段势垒层采用梯度能级设计且均进行p型掺杂;本发明通过梯度能级势垒阻挡电子溢出、p型掺杂补充空穴浓度,解决了现有技术高温下载流子损失与复合效率低的问题,使85℃外量子效率衰减率≤10%,寿命延长至5万小时以上,且工艺兼容量产,适用于显示、照明等领域。
技术关键词
外延结构
量子阱结构
势垒层
电子阻挡层
GaAs衬底
p型透明导电
p型掺杂
刻蚀阻挡层
MicroLED芯片
间隔层
p型欧姆接触层
MOCVD技术
电感耦合等离子体
缓冲层
衬底层
二甲基锌
电路
刻蚀气体
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