光学邻近校正方法、电子设备和计算机可读存储介质

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推荐专利
光学邻近校正方法、电子设备和计算机可读存储介质
申请号:CN202511453379
申请日期:2025-10-11
公开号:CN120928643A
公开日期:2025-11-11
类型:发明专利
摘要
本公开涉及一种光学邻近校正方法、电子设备和计算机可读存储介质。光学邻近校正方法包括:将初始版图图形的轮廓切割为多个线段;将在轮廓的预设区域的线段切割为多个第一点;针对多个线段以及多个第一点中的每个第一点分别确定相应的光强误差,其中光强误差指示仿真图形与目标版图图形之间的偏差;将光强误差与第一阈值进行比较;以及移动具有大于第一阈值的光强误差的线段以及第一点以生成具有更小的光强误差的更新的版图图形。本公开实施例的方案可以在有效控制计算成本的同时显著降低版图图形预设处的收缩效应。
技术关键词
版图图形 光学邻近校正方法 光强 线段 误差 仿真图形 光刻模型 轮廓 可读存储介质 电子设备 端点 处理器 样条 计算机 偏差 顶点 光刻胶 存储器 曲线 指令
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