成像系统及其设计方法

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成像系统及其设计方法
申请号:CN202511470123
申请日期:2025-10-15
公开号:CN120928569A
公开日期:2025-11-11
类型:发明专利
摘要
本申请揭示了一种成像系统及其设计方法,设计方法包括:获得第一成像信息和第一目标信息,所述第一成像信息由成像系统对第一目标物成像得到,所述第一目标信息表示所述第一目标物的实际信息,基于所述第一成像信息和第一目标信息,确定损失值,基于损失值,更新所述光学元件的聚焦位置,或者更新所述处理模块的设计,或者更新所述光学元件的聚焦位置和所述处理模块的设计两者,直至所述损失值满足预设数值条件,得到成像系统的设计信息。本申请提供的设计方法,设计得到的系统能够适应复杂任务下的成像和处理,生成的信息全面、准确。
技术关键词
光学元件 成像 点扩散函数 纳米结构 正则化参数 坐标 模块 算法模型 超表面 光强 信号 间距 数值 关系 尺寸
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