基于内窥倍增成像的深孔内表面缺陷检测方法

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推荐专利
基于内窥倍增成像的深孔内表面缺陷检测方法
申请号:CN202511470198
申请日期:2025-10-15
公开号:CN121027161A
公开日期:2025-11-28
类型:发明专利
摘要
本发明属于光学测量与机器视觉的几何量精密测量技术领域,公开了一种基于内窥倍增成像的深孔内表面缺陷检测方法。首先分析深孔内壁缺陷会导致内窥成像结果出现变化。其次通过单根光线的路径变化分析,结合几何光学原理与空间坐标系变换,构建了缺陷高度与角度变化对出射光线偏移量的缺陷表征模型。然后,采用Trace Pro光学仿真软件,模拟高度缺陷和角度缺陷验证模型的准确性。最后通过多截面点云拼接,实现深孔内壁不同缺陷轴向三维重构,表征不同缺陷导致出射光线变形结果,根据光线偏移结果逆向分析得到深孔内表面缺陷。
技术关键词
缺陷高度 表面缺陷检测方法 辅助线 深孔内表面 内窥 深孔轴线 横向偏移量 仿真数据 坐标系 成像 锥面 仿真软件 特征点 验证缺陷 关系 畸变特征 正弦定理 拼接算法 光屏 数学
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