摘要
本发明提供了一种显示面板的制造加工光刻方法及系统,涉及光刻加工技术领域。本发明通过对显示面板基板进行清洗、底涂及分区划分,形成覆盖全部曝光分区的可成像微标记,并依次成膜下层支撑胶与上层成像胶后量测厚度与均匀性;以微标记为成像对象进行在位采集与建模,生成曝光修正指令和重叠能量表;利用数字微镜分区曝光并实时校正,完成显影以获得陡直侧壁的抗刻蚀窗口;依据曝光记录与窗口质量数据设定刻蚀窗口并执行低损伤刻蚀与缺陷复原,形成稳定性评估数据。该方法实现了高精度曝光、图形一致性及电学稳定性的综合提升。
技术关键词
显示面板基板
分区
畸变模型
光刻方法
标记
成像
参数
数据
坐标
运动平台
定义
胶膜
校正
网格
涂覆
微镜
尺寸
薄膜层