基于垂直腔面发射激光器阵列的点阵投影生成方法及装置

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基于垂直腔面发射激光器阵列的点阵投影生成方法及装置
申请号:CN202511543529
申请日期:2025-10-28
公开号:CN121008401A
公开日期:2025-11-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于垂直腔面发射激光器阵列的点阵投影生成方法及装置,方法包括:根据复振幅计算函数对读取的阵列参数进行计算得到入射复振幅;根据设定规则确定与阵列参数对应的目标强度点阵信息;发送初始设定指令至超透镜以设定初始随机相位;根据衍射函数对初始随机相位及入射复振幅进行衍射传播解析得到目标面复振幅,并基于目标面复振幅对初始随机相位进行迭代优化得到目标点阵相位;根据目标点阵相位生成相位设定指令并发送至超透镜以获取超透镜进行光束相位调节得到的目标点阵投影。上述方法,利用激光器阵列入射至超透镜的复振幅结合梯度下降算法进行迭代优化,得到目标点阵相位,提高了所生成的点阵投影的质量。
技术关键词
点阵信息 生成方法 透镜 控制终端 参数 强度 生成装置 阵列 方格 建立通信 指令 梯度下降算法 激光器 光束 矩形 数据
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