一种用于高分辨率干膜光刻胶制备的监测方法及系统

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一种用于高分辨率干膜光刻胶制备的监测方法及系统
申请号:CN202511554116
申请日期:2025-10-29
公开号:CN121026244A
公开日期:2025-11-28
类型:发明专利
摘要
本发明涉及过程分析技术领域,揭露了一种用于高分辨率干膜光刻胶制备的监测方法及系统,包括:构建干膜光刻胶在制备流程的非接触传感器阵列,以实时采集干膜光刻胶在制备流程的多维时空数据流,对多维时空数据流进行数据融合,得到融合数据体;构建干膜光刻胶的多物理场耦合数字孪生体,分析干膜光刻胶的隐性质量指标,生成干膜光刻胶的耦合特征向量;计算干膜光刻胶的溶剂残留率、线边缘粗糙度以及高分辨临界曝光剂量,以分析干膜光刻胶的制备状态;分析制备状态的异常因子,以计算干膜光刻胶的参数调整序列;生成干膜光刻胶在制备流程的调控指令,以执行干膜光刻胶的制备监控。本发明可以提升干膜光刻胶制备的良品率和生产效率。
技术关键词
干膜光刻胶 数字孪生体 线边缘粗糙度 监测方法 神经网络框架 接触传感器 物理 数据体 路径特征 序列 聚合物 参数 非接触式传感器 异常状态 分析模块 方程
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