一种VCSEL外延片厚度均匀性检测方法

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正文
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一种VCSEL外延片厚度均匀性检测方法
申请号:CN202511567111
申请日期:2025-10-30
公开号:CN121033056B
公开日期:2025-12-26
类型:发明专利
摘要
本发明属于图像处理技术领域,具体涉及一种VCSEL外延片厚度均匀性检测方法,其方法包括:获取VCSEL外延片进行空间对齐后的厚度图谱和良率图谱;得到厚度图谱中每个位置的全局背景厚度;计算各位置的邻域内厚度偏差的波动标准差;获取邻域异常分数、邻域失效率、获得邻域基准参数;根据各位置的邻域异常分数与邻域失效率的乘积、邻域基准参数以及皮尔逊相关系数三者间的相对偏离与相关性加权关系,计算得到问题归因风险指数;根据问题归因风险指数推断异常模式类型、生成归因报告。本发明解决了现有技术对VCSEL外延片厚度与良率关联归因能力缺失的问题。
技术关键词
厚度均匀性检测方法 邻域 外延片 图谱 归因 皮尔逊相关系数 指数 模式识别模型 图像配准算法 基准 表达式 风险 报告 参数 偏差 图像处理技术 良率 图像分割 数据
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