一种带壁挂式烘干的湿法台

本申请公开了一种带壁挂式烘干的湿法台，涉及半导体加工技术领域，包括湿法台本体以及烘干装置；湿法台本体具有作业腔室；作业腔室底部设有刻蚀槽；作业腔室内安装有移料机器人；烘干装置安装于作业腔室的侧面；移料机器人用于将工件移送至刻蚀槽中以进行刻蚀；移料机器人还用于将刻蚀槽中的工件移送至烘干装置中以进行烘干。通过将烘干装置安装在作业腔室的侧面，采用壁挂式设计，有效避免了烘干装置与刻蚀槽在同一水平面分布所带来的空间占用问题。这种垂直空间的利用方式能够在不增加机台整体尺寸的前提下，为刻蚀槽的布置腾出更多空间，从而实现更高的空间利用率。