无透镜成像系统、制造无透镜成像系统的方法、以及电子装置

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正文
推荐专利
无透镜成像系统、制造无透镜成像系统的方法、以及电子装置
申请号:CN202410718410
申请日期:2024-06-04
公开号:CN120151626A
公开日期:2025-06-13
类型:发明专利
摘要
一种无透镜成像系统,包括:编码掩模,包括至少一个域;以及图像传感器,被配置为接收穿过编码掩模的光,并且基于接收到的光生成用于图像生成的电信号,其中,至少一个域中的每一个包括被设置为第一图案的多个子域,多个子域中的每一个包括第二图案,并且多个子域被配置为基于第一图案和第二图案的组合来偏转入射光。
技术关键词
无透镜成像系统 编码掩模 图案 图像传感器 互补金属氧化物半导体 闪耀光栅 辐射热测量计 重建算法 电信号 深度学习算法 电子装置 控制器 曲线 衬底 处理器 对象
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