功率半导体器件芯片、其制备方法、对应器件及电子设备

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功率半导体器件芯片、其制备方法、对应器件及电子设备
申请号:CN202410772040
申请日期:2024-06-16
公开号:CN118738108B
公开日期:2025-05-30
类型:发明专利
摘要
一种功率半导体器件芯片、其制备方法、对应器件及电子设备,属于半导体设计和制造技术领域。所述功率半导体器件芯片,包括形成在基区上的门极接触环和呈环状排列的阴极梳条,每一个阴极梳条与对应的基区之间形成有波浪结;其中,与门极接触环距离最远的波浪结,相对于其它区域的波浪结,具有最大的宽度和/或结深。本发明通过调整不同阴极环中IGCT元胞的波浪结注入掩膜,优化了远离门极接触环的阴极环中IGCT元胞的波浪结形貌,使IGCT关断时的动态雪崩位置更加远离阴极区,不容易发生阴极重触发失效,增强了器件电流关断能力;本发明的方法工艺简单,仅需修改离子注入掩膜,不增加额外工艺步骤。
技术关键词
离子注入掩膜 功率半导体器件 阴极 离子注入法 光刻胶图案 元素 梳条 半导体基底 电子设备 芯片 尺寸 硬掩膜 关断 二氧化硅 环状
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