摘要
本发明公开的用于偏振转换器的铌酸锂薄膜平台设计方法,包括:S1、将铌酸锂薄膜层的设计区域均分成M x N个网格单元,每个网格单元存在两种可能的编码状态,不同编码状态的折射率不同;S2、改变设计区域中网格单元的编码状态,形成当前的设计区域状态Zi,获取设计区域状态Zi下的品质因数FOMi;S3、若品质因数FOMi大于当前最优的品质因数FOMm,将当前最优品质因数FOMm更新为品质因数FOMi,并保存对应的设计区域状态Zi,进行下一轮迭代;S4、直至品质因数满足预期的设计目标或者达到设定的迭代次数,选取最优品质因数对应的设计区域状态。在不使用铌酸锂刻蚀工艺的条件下,可获取铌酸锂薄膜表面生成两种不同的折射率状态,工艺可行性强,有利于推动铌酸锂基光子集成芯片的发展。
技术关键词
平台设计方法
偏振转换器
品质因数
铌酸锂薄膜
锥形探针
薄膜层
网格
编码
扫描探针
光子集成芯片
铌酸锂衬底
铌酸锂基
电场
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偏振光
刻蚀工艺
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