自投影增强和隐式场约束的点云补全方法、介质及设备

本发明提供了一种自投影增强和隐式场约束的点云补全方法、介质及设备；其中，方法包括如下两个阶段：第一阶段，采用基于自投影增强的方式，生成粗粒度的补全点云；采用双向感知增强模块细化点云，得到最终精细的点云；以及第二阶段，采用基于隐式场约束的方式，生成细粒度点云。该方法采用自投影视图技术，通过一个双向感知细化模块来增强补全结果的完整性和细节表现，并通过引入隐式场约束有效去除生成点云中的噪点，能够准确估计出完整三维点云的位置坐标，从而实现精确的点云补全。