无掩膜光刻系统的直帧式数据处理方法及曝光系统

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无掩膜光刻系统的直帧式数据处理方法及曝光系统
申请号:CN202410862154
申请日期:2024-06-28
公开号:CN118584766A
公开日期:2024-09-03
类型:发明专利
摘要
本发明的一种无掩膜光刻系统的直帧式数据处理方法及曝光系统,包括对待曝光图形进行图形变换处理,得到待曝光图形的副本;对待曝光图形的副本按数据处理单元待处理区域进行图形条带化,得到待曝光条带图形;依据预设的直接帧化算法,结合扫描步长、扫描方向、空间光调制器的配置和扫描倾斜角,逐帧改变帧化位置,并依据待曝光条带图形在帧化位置的图形集合生成帧图像,得到帧图像序列;本发明没有数据量巨大的条带栅格化、数据压缩和解压缩、条带图像倾斜化等步骤,减轻了数据计算、数据缓存与传输的压力,降低了对硬件资源的需求,提高了实时性,充分利用了数据处理单元的计算资源,简化了开发过程。
技术关键词
数据处理方法 数据处理单元 空间光调制器 无掩膜光刻系统 曝光系统 生成帧 条带 主控机 图像 副本 像素点 特征描述符 算法 子系统 矩阵 序列 数据压缩 输出特征
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