无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法、设备及存储介质

本发明的一种无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法、设备及存储介质，包括根据构建帧化矩形，反向倾斜待曝光图形副本，按反倾斜方向和轴向步长改变帧化矩形的位置，按空间光调制器的像方像素精度在帧化矩形内进行多边形填充，得到帧图像。本发明利用待曝光图形的反倾斜后与帧化窗口之间的特殊关系，构造出轴对齐的帧化窗口，利用成熟的填充算法进行帧图像的构造，加速了帧化的处理效率。减少了中间栅格化条带图形，倾斜条带图像处理步骤，减少了中间数据的生成和传输时间，也提高了单次曝光中从图形变换到开始曝光过程的等待时间；通过本发明的实施，不仅减少主机硬件的投入，也将极大提高曝光的响应时间。