摘要
本公开涉及一种门极换流晶闸管芯片及其制备方法,涉及半导体技术领域。所述门极换流晶闸管芯片的制备方法,包括以下步骤:提供衬底;向衬底的上表面进行第一型掺杂形成第一型基区,向衬底的下表面进行第一型掺杂形成第一型阳极区;向第一型基区的上表面进行第一型离子注入,通过调节注入角度和/或注入掩膜版开口大小,形成纵向和横向变掺杂且具有预设掺杂浓度的第一型掺杂基区;向第一型掺杂基区的上表面进行第二型杂质扩散,形成第二型掺杂发射区;于第一型阳极区的下表面进行第一型离子注入,形成第一型掺杂发射区。本公开可以提升器件的关断性能。
技术关键词
晶闸管芯片
衬底
掩膜
离子掺杂
阳极
掺杂区
软件仿真
光刻胶
阴极
阶梯状
电阻
关断
薄膜
数值
电极
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