一种投影光场振幅与相位混合优化方法及系统

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一种投影光场振幅与相位混合优化方法及系统
申请号:CN202410929625
申请日期:2024-07-11
公开号:CN118838125B
公开日期:2025-09-23
类型:发明专利
摘要
本发明属于投影光场调控相关技术领域,其公开了一种投影光场振幅与相位混合优化方法及系统,其中方法包括:根据输入光场计算实际生成投影光场;将目标投影光场的参数和实际生成投影光场的参数代入目标函数模型,判断是否满足预设阈值;所述目标函数模型包括振幅目标函数和相位目标函数,用于评价实际生成投影光场振幅和相位的精确度;若不满足目标函数模型的预设阈值,则采用梯度法对输入光场的输入振幅和输入相位进行优化更新,直至满足目标函数模型的预设阈值或者优化次数达到预设次数。本发明通过光场振幅与相位的混合优化,同时控制生成光场的振幅和相位分布,实现更高自由度的光场复振幅控制。
技术关键词
混合优化方法 矢量成像模型 图案 轮廓 光场调控 参数 成像镜头 投影系统 数值 因子 坐标 误差 模块 符号 网格 矩阵 代表 关系
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