一种基于周期光场特征提取的纳米精度位移解析方法

一种基于周期光场特征提取的纳米精度位移解析方法，入射光经光栅周期结构的透射或反射，形成周期光场；在进行多周期测量时，采用“三段式”位移测量：先通过计算指定点检测到的光斑数来测量第一段位移，通过设置检测区域，在检测区域内通过一个光场的周期，则后台探测器相应产生一个计数脉冲；再针对首末两端不足一个光栅周期的情况，通过对两端的像素点数来测量第二段位移；最后针对不足一个像素点周期的亚微米级位移，通过图像处理的方式，采用高斯峰值拟合定位光场的峰值线，通过亚像素点位移的细分测量，获得第三段位移；本发明提高光栅光场的位移解析精度。