一种基于厄米高斯光模分解的偏摆角测量装置及方法

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一种基于厄米高斯光模分解的偏摆角测量装置及方法
申请号:CN202410952736
申请日期:2024-07-16
公开号:CN118758218A
公开日期:2024-10-11
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种基于厄米高斯光模分解的偏摆角测量装置及方法,属于光学测量技术领域。该装置主要包括激光器、半波片、透镜、空间光调制器、可调节光阑、反射镜、Sagnac干涉仪、翻转镜、分束探测器以及CCD图像传感器等部件。本发明通过空间光调制器产生高纯度光束,极大提高了光束调制的灵活性和精确性;同时利用压电陶瓷产生的振动破坏干涉仪平衡性和利用翻转镜获取振动信息与光束强度图,计算机通过CCD图像传感器对光束强度图进行处理,采用高效的模式分解算法,能准确识别并分离不同模态成分,计算小倾角时快速准确。本发明在科研、医疗、工业检测等领域具有广泛的应用前景,为相关领域的科研工作和技术应用提供了有力支持。
技术关键词
空间光调制器 反射镜 CCD图像传感器 光束 频谱分析仪 调节光阑 干涉仪 探测器 模拟退火算法 测量方法 压电陶瓷 单频光纤激光器 邻域搜索策略 模式 透镜系统 反射式液晶
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