基于边缘检测的电子束光刻胶残胶定量分析方法及系统

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基于边缘检测的电子束光刻胶残胶定量分析方法及系统
申请号:CN202410965293
申请日期:2024-07-18
公开号:CN118864413B
公开日期:2025-09-05
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种基于边缘检测的电子束光刻胶残胶定量分析方法及系统,其中方法通过扫描电子显微镜拍摄曝光、显影后的光刻胶结构,并将扫描电子显微镜拍摄得到的带有光刻胶结构特征的原始图像通过边缘检测算法分割为光刻胶结构区域和被显影区域,并分别计算两个区域的平均灰度,获得结构间残胶定量评价结果。与现有技术相比,本发明将电子束光刻胶结构中的残胶定量化,可以直观地比较不同曝光参数所得到的光刻胶曝光结果,有利于电子束光刻曝光参数的精确控制,更有潜力提高电子束光刻加工的效率和良品率。
技术关键词
电子束光刻胶 光刻胶结构 扫描电子显微镜 定量分析方法 电子束光刻装置 定量分析系统 边缘检测算法 电子光学系统 图像分析模块 电子枪 光刻曝光 透镜系统 分割算法 版图 衬底
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