光场分布优化方法、装置、设备、存储介质和程序产品

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光场分布优化方法、装置、设备、存储介质和程序产品
申请号:CN202410986274
申请日期:2024-07-23
公开号:CN118940503A
公开日期:2024-11-12
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种光场分布优化方法、装置、设备、存储介质和程序产品,涉及光学技术领域,所述光场分布优化方法,包括:获取板上芯片封装COB光芯片的初始结构模型,初始结构模型用于指示COB光芯片的光场能量经过预设自由曲面映射到预设目标面的初始光场能量分布;获取初始光场能量分布和预设目标面上的预设光场能量分布之间的光场能量偏差;根据光场能量反馈算法LEFA和光场能量偏差,对初始结构模型进行优化,得到优化后的结构模型,优化后的结构模型用于指示COB光芯片的光场能量经过预设自由曲面映射到预设目标面的优化后的光场能量分布。本发明可以实现高均匀性的光场分布需求,且计算流程简单、计算速度快。
技术关键词
点光源 分布优化方法 能量反馈算法 板上芯片 曲面 偏差 尺寸 照度 光强 处理器 可读存储介质 优化设备 计算机程序产品 优化装置 关系 存储器 模块
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