用于半导体样本的基于机器学习的缺陷检查

提供了一种对半导体样本进行缺陷检查的系统和方法。所述方法包括：获得所述半导体样本的运行时图像；使用机器学习(ML)模型基于所述运行时图像来生成参考图像；以及使用所生成的参考图像对所述运行时图像执行缺陷检查。先前使用训练集在两个训练模式之间交替地训练所述ML模型：随机模式，其中所述ML模型被配置为生成具有来自图案变化(PV)分布的随机PV的预测参考图像；以及确定性模式，其中所述ML模型被配置为生成具有选自所述PV分布的预定PV的预测参考图像，所述ML模型基于在所述训练集中观察到的PV来学习所述PV分布。