一种硅片生产管式炉PLC均衡控温方法及相关设备

本申请涉及管式炉技术领域，尤其涉及一种硅片生产管式炉PLC均衡控温方法及相关设备，其方法包括：获取工艺过程数据，并将工艺过程数据按照温区进行分组；基于预设滤波规则对分组后的工艺过程数据进行滤波，并获取滤波过程数据；将滤波过程数据输入到优化控制模型，并获取不同温区对应的闭环参数；基于闭环参数以及预设闭环算法，获取实时控制输出量；将实时控制输出量转换为加热丝控制功率，并基于目标温度以及加热丝控制功率对不同温区进行温度调控。本申请有助于提高温度控制均衡性和稳定性。