一种监控EEL激光芯片腔面介质膜性能参数的方法

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一种监控EEL激光芯片腔面介质膜性能参数的方法
申请号:CN202411020804
申请日期:2024-07-29
公开号:CN119025846A
公开日期:2024-11-26
类型:发明专利
摘要
一种监控EEL激光芯片腔面介质膜性能参数的方法,包括:获取被测芯片腔面介质膜的性能参数;构建芯片腔面介质膜的性能参数与芯片性能的关联模型;将被测芯片腔面介质膜性能参数与所述关联模型中的性能参数进行对比,判断并输出被测芯片的芯片性能。本发明通过快速捕捉EEL芯片腔面介质膜的外观、厚度、光学常数等性能参数信息,并通过大数据模型分析,将芯片性能与上述参数建立起联系,为后续芯片的筛选、分类提够了可靠的指导性意见,对钝化膜和光学膜工艺质量稳定的监控和新工艺开发等工作所需的时间周期、各类成本消耗改善极为明显。
技术关键词
芯片 介质 光学膜 镀膜参数 坐标 激光 服务器 自动聚焦系统 自动化控制系统 样品台 镀膜工艺 椭偏仪 测试仪器 相机 夹具 焦点 数据 成膜 图片
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