一种高密度异质异构的2.5D集成结构及制备方法

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一种高密度异质异构的2.5D集成结构及制备方法
申请号:CN202411024496
申请日期:2024-07-29
公开号:CN118919424A
公开日期:2024-11-08
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种高密度异质异构的2.5D集成结构及制备方法,将沉积有第一种子层的第一基体和第二基体键合;在键合后的第一基体背面光刻形成垂直互连结构;去除垂直互连结构周围的所述第一基体,并在剩余第一基体的第一种子层上贴附第一多功能芯片;在第二基体上填充并固化形成第三基体,并将第三基体减薄至垂直互连结构和第一多功能芯片均裸露;在第三基体上制备得到第一互连Pad结构,第一互连Pad结构通过冶金结合第二多功能芯片,对第三基体塑封得到第四基体;将第四基体临时键合第五基体,并在所述第四基体上制备得到重布线层,基于重布线层得到微凸点结构,去除第五基体得到目标模块,将所述目标模块焊接至I C载板,得到异质异构的2.5D集成结构。
技术关键词
垂直互连结构 基体 多功能芯片 重布线层 光敏树脂 微凸点结构 高密度 异质 种子层 异构 金属沉积方法 涂胶机 湿法刻蚀方法 显影机 塑封系统 金属湿法 涂覆 填充系统
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