摘要
本发明属于薄膜型环形器芯片技术领域,具体涉及一种薄膜型环形器芯片及其制备方法。本发明提供的薄膜型环形器芯片,包括铁氧体基底,依次设置在所述环形器芯片的铁氧体基底表面的相容层、打底层、金属种子层和金属层;所述相容层包括FeCoNi合金层、FeCo合金层、FeNi合金层和CoNi合金层中的一层或多层。本发明在铁氧体基底的表面设置一层相容层,通过合理选择相容层的材料,使相容层与铁氧体基底的成分相似,提高相容层与铁氧体基底的附着力,从而最终提高金属层与铁氧体基底的附着力。由此,本发明提供的薄膜型环形器芯片经加热处理或者外力作用,金属层均未出现起泡、起皮和脱落的问题。
技术关键词
薄膜型
环形器
FeNi合金
芯片
半成品
种子层
基底
铁氧体基板
涂覆光刻胶
沉积方法
图案
真空度
电镀
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