惯性传感器芯片及其制造方法

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惯性传感器芯片及其制造方法
申请号:CN202411109804
申请日期:2024-08-14
公开号:CN118619195B
公开日期:2024-11-15
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种惯性传感器芯片及其制造方法,其中制造方法包括:提供衬底和电连接晶圆;在衬底的一侧开设第一凹槽、第二凹槽和第三凹槽;在衬底开设凹槽的一侧键合硅晶圆层;在硅晶圆层远离衬底的一侧形成第四凹槽和第五凹槽;在硅晶圆层远离衬底的一侧制作电连接层;图形化刻蚀硅晶圆层以形成通气孔、第一惯性敏感结构和第二惯性敏感结构;将电连接晶圆与电连接层键合;在衬底上形成与第三凹槽相连通的调压孔;以密封调压孔。本申请通过开设与第三凹槽相连通的调压孔,能够使得开设过程中引入的颗粒物和杂质掉落于第三凹槽内,不会掉落于惯性敏感结构上,对惯性敏感结构的造成损坏。
技术关键词
惯性传感器 敏感结构 凹槽 衬底 芯片 通气孔 晶圆 物理 电信号 光刻 气压 氧化硅 共晶
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