基于总线和开关矩阵的硅衬底中介层结构

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基于总线和开关矩阵的硅衬底中介层结构
申请号:CN202411136089
申请日期:2024-08-19
公开号:CN119170589A
公开日期:2024-12-20
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于总线和开关矩阵的硅衬底中介层结构,属于集成电路芯片封装技术领域,本发明一种基于总线和开关矩阵的硅衬底中介层结构,该结构包括硅衬底中介层、功能芯片、MCU、开关矩阵、总线结构、TSV、微凸点、C4凸点、封装基板、封装球和电路板,其中,硅衬底中介层位于整个多层封装结构的中间层,在其上方安装有功能芯片、开关矩阵和MCU,并通过微凸点与硅衬底电连接;总线结构位于硅衬底中介层内,连接功能芯片、MCU和开关矩阵;TSV贯穿硅衬底中介层连接功能芯片与封装基板;封装基板位于硅衬底中介层的下方,通过C4凸点与硅衬底中介层相连,并通过封装球与电路板连接,本发明克服了现有技术中互联路径固定和复杂结构管理难。
技术关键词
衬底中介层 开关矩阵 总线结构 硅衬底 封装基板 多层封装结构 传感器接口芯片 可编程逻辑控制 贯穿硅 面朝下安装 图像处理芯片 微控制器单元 电路板 电源管理芯片 处理器芯片 集成开关
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