用于OPC模型的方法、电子设备及计算机可读存储介质

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用于OPC模型的方法、电子设备及计算机可读存储介质
申请号:CN202411392445
申请日期:2024-09-30
公开号:CN119358486A
公开日期:2025-01-24
类型:发明专利
摘要
本公开的实施例涉及用于OPC模型的方法、电子设备及计算机可读存储介质。该方法包括:确定光刻胶多个平面位置的不同深度位置的轮廓线;基于各个轮廓线确定各个光刻图形的相应的关键尺寸的量测值;基于关键尺寸的量测值与关键尺寸的仿真值确定成本函数的值;以及响应于成本函数的值满足预定条件,将对应于成本函数的值的模型确定为目标OPC模型。本公开的方案能够构建具有改善精度的OPC模型。
技术关键词
OPC模型 光刻图形 像素 尺寸 光学邻近校正模型 光刻胶 可读存储介质 曲线 计算成本函数 设备执行动作 扫描电子显微镜 轮廓 电子设备 处理器 计算机 指令 代表 图像 存储器
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