摘要
本公开的实施例涉及用于OPC模型的方法、电子设备及计算机可读存储介质。该方法包括:确定光刻胶多个平面位置的不同深度位置的轮廓线;基于各个轮廓线确定各个光刻图形的相应的关键尺寸的量测值;基于关键尺寸的量测值与关键尺寸的仿真值确定成本函数的值;以及响应于成本函数的值满足预定条件,将对应于成本函数的值的模型确定为目标OPC模型。本公开的方案能够构建具有改善精度的OPC模型。
技术关键词
OPC模型
光刻图形
像素
尺寸
光学邻近校正模型
光刻胶
可读存储介质
曲线
计算成本函数
设备执行动作
扫描电子显微镜
轮廓
电子设备
处理器
计算机
指令
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图像
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