摘要
本申请公开了一种数据清洗方法、装置、设备、介质及产品,应用于光刻工艺领域。本方法先获取多个光刻建模数据,并采用适合光刻数据的距离度量方式确定各光刻建模数据之间的距离,进而基于各光刻建模数据之间的距离,对各光刻建模数据进行聚类处理,得到多个聚类集合。针对每个聚类集合,仅选取预设数量的光刻建模数据作为代表元素,并滤除除代表元素外的其余非代表元素。相较于传统手工筛选的方式,本方案在多个相似的元素仅选取了少量具有代表性的代表元素进行光刻建模,精准去除了光刻建模数据中的重复性和无用数据,大幅提高建模的准确性和效率;为计算光刻建模提供了高质量、精炼且具有代表性的数据,有力推动光刻工艺的优化和发展。
技术关键词
数据清洗方法
聚类
计算机程序指令
元素
数据清洗设备
代表
计算机程序产品
数据清洗装置
协方差矩阵
光刻工艺
度量
可读存储介质
特征值
处理器
电子设备
模块
重复性
系统为您推荐了相关专利信息
成分分析方法
分布式环境
同态加密算法
特征值集合
数据
样本
初始聚类中心
电网设备
生成方法
均值聚类算法
管理系统
干涉条纹图像
坐标
抑制轴承
除尘设备参数
检测点
图像采集单元
智能检测系统
数据采集单元
公路