一种辐射成像调整方法、系统及介质

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一种辐射成像调整方法、系统及介质
申请号:CN202411458967
申请日期:2024-10-18
公开号:CN119417702A
公开日期:2025-02-11
类型:发明专利
摘要
本申请实施例提供了一种辐射成像调整方法、系统及介质,该方法包括:获取辐射图像,对辐射图像进行预处理,得到处理图像;基于处理图像分析图像参数是否满足设定的条件信息,图像参数包括图像灵敏度、图像分辨率与图像退化信息;若满足设定的条件信息,则生成优化后的辐射图像;若不满足设定的条件信息,则生成修正信息,基于修正信息对处理图像的图像参数进行调整,生成调整结果;将调整结果或优化后的辐射图像按照预定的方式传输至终端;通过对辐射图像进行不同图像参数的优化调整,提高辐射图像的反映精度,保证辐射成像的灵敏度、高分辨率与边缘清晰度。
技术关键词
辐射成像 图像边缘特征 形态学滤波 生成超分辨率图像 噪声特征 参数 图像分析 生成噪声 滤波去噪 像素点 可读存储介质 插值算法 程序 处理器 终端 存储器 计算机
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