一种基于无脉冲泵供液的芯片清洗装置及清洗方法

本发明涉及半导体器件制造处理领域，具体是一种基于无脉冲泵供液的芯片清洗装置及清洗方法，所述基于无脉冲泵供液的芯片清洗装置包括控制柜及设于所述控制柜上的箱体，还包括：横台，转动安装在所述箱体中，用于放置待清洗的晶圆，且所述横台上设有多个用于对晶圆进行限位的稳固机构，所述横台的转动轴与安装在所述箱体中的变速驱动机构连接，所述变速驱动机构能够以不同转速驱使所述横台旋转；本装置能够将清洗与冲洗功能集为一体，且喷射介质由清洗液切换为超纯水时，晶圆的旋转速度能够自动提升，避免了因清洗与冲洗处理的要求不同而需要分不同设备进行的问题，简化了芯片的生产流程。