微纳共形感知非晶碳膜压阻传感器制备工艺及非晶碳膜压阻传感器

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微纳共形感知非晶碳膜压阻传感器制备工艺及非晶碳膜压阻传感器
申请号:CN202411487438
申请日期:2024-10-24
公开号:CN119017856B
公开日期:2025-03-14
类型:发明专利
摘要
本发明涉及压阻式传感器技术领域,具体涉及微纳共形感知非晶碳膜压阻传感器制备工艺及非晶碳膜压阻传感器,所述微纳共形感知非晶碳膜压阻传感器制备工艺包括,获取目标曲面的三维模型,将三维模型分别映射至平面丝印模具;制备感知浆料并对感知浆料进行预处理;制备基底并通过微纳制备工艺对基底进行优化处理;利用平面丝印模具将预处理后的感知浆料印刷至优化后的基底,形成非晶碳膜感知层。其目的在于,实现曲面压力共形感知,提升压阻传感器性能稳定性。
技术关键词
非晶碳膜 丝印模具 三维模型 压阻式传感器技术 光刻图形化 图形化微结构 曲面 石墨烯纳米片 丝网印刷工艺 压阻传感器 多壁碳纳米管 三维点云数据 基底层 导电油墨 边缘检测 引线 应力
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