一种双监督训练的结构光照明显微深度学习重建方法

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一种双监督训练的结构光照明显微深度学习重建方法
申请号:CN202411490905
申请日期:2024-10-24
公开号:CN119477724B
公开日期:2025-09-05
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种双监督训练的结构光照明显微深度学习重建方法。本发明在高激光强度和高曝光时间条件下采集原始结构光照明显微超分辨图像以及原始宽场真值图像,以及在同视野下在低激光强度和短曝光条件下采集原始调制宽场图像,进行图像增强后作为训练数据集;根据成像使用参数生成系统的点扩散函数,并且构建结构光照明显微重建的神经网络;利用基于结构光照明显微超分辨图像和基于宽场真值图像的双监督形式对结构光照明显微重建的神经网络进行梯度下降训练;本发明能够进一步提高深度学习重建结构光超分辨显微图像的性能;本发明应用于条纹调制结构光和晶格调制结构光照明显微镜等主流结构光照明显微镜的图像重建。
技术关键词
结构光照明显微镜 生成系统 图像增强 激光 成像 双线性插值方法 深度学习平台 代表 通道注意力机制 点扩展函数 皮尔逊相关系数 视野 训练神经网络 随机梯度下降 强度 上采样
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