一种去除可润湿性侧翼QFN毛刺的方法

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一种去除可润湿性侧翼QFN毛刺的方法
申请号:CN202411522741
申请日期:2024-10-29
公开号:CN119419124A
公开日期:2025-02-11
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种去除可润湿性侧翼QFN毛刺的方法,包括:S1,按照QFN封装工艺对芯片进行塑封,塑封完成后,在塑封后的QFN框架背面粘贴透明的抗酸UV膜;S2,对粘贴有抗酸UV膜的QFN框架进行一次切割;S3,将切割后的QFN框架置于铜毛刺清洗液中,进行化学浸蚀;S4,化学浸蚀完成后,将QFN框架取出进行清洗和烘干,之后对QFN框架和抗酸UV膜进行UV光照射处理;S5,UV光照射处理后,在抗酸UV膜的表面贴粘性膜,揭除粘性膜以实现抗酸UV膜与QFN框架的分离;S6,进行电镀、打标、二次切割工序。本发明方法解决了由于毛刺原因在电镀过程中产生锡须和短路等不良问题,保证了产品的外观一致性和质量。
技术关键词
QFN封装工艺 侧翼 UV光 框架 改性聚丙烯酰胺 粘性膜 毛刺原因 清洗液 光亮剂 缓蚀剂 稳定剂 电镀 光照 双氧水 丁二醇 磷酸酯 基材 去离子水 丙烯酸 芯片
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