一种提高单晶硅透镜折射率均匀性的高温处理系统

本发明公开了一种提高单晶硅透镜折射率均匀性的高温处理系统，涉及精密光学制造与材料科学领域，包括，收集单晶硅透镜的几何形状、材料特性以及历史数据，同时采集单晶硅透镜的实时温度数据，并对所有数据进行预处理，基于预处理后的单晶硅透镜实时温度数据和历史数据，建立热分布预测模型，输出初步的热分布预测结果，根据热分布预测结果控制加热高温处理腔内的多区加热器，并且向高温处理腔内注入惰性气体，完成对单晶硅透镜的温度控制和环境配置，基于设计要求和历史数据设置目标单晶硅透镜目标折射率，本发明根据实际情况精确预测可能的过热或过冷区域，提供优化的加热功率分布依据，避免了局部热应力集中，显著提高透镜的折射率均匀性。