摘要
本发明涉及微纳光电子芯片技术领域,尤其涉及一种基于耦合消光的薄膜铌酸锂波导及其制备方法。本发明的波导包括:铌酸锂、包层、衬底和金属层;包层设于衬底上,且铌酸锂的一端暴露于包层的第一侧暴露,铌酸锂的另一端嵌入包层的内部,金属层设于包层的顶部。衬底为输入端口,波导与铌酸锂暴露的一端耦合,包层的顶部为输出端口。本发明提供的一种基于耦合消光的薄膜铌酸锂波导及其制备方法,针对耦合条件进行了设计,由于TE和TM的模场主要集中在侧壁和顶部,这使得TM模式在耦合至左侧波导后被金属强烈吸收,而TE模式耦合后由于存在氧化硅的包层间隔吸收较弱,能够提高片上偏振器件的偏振消光比、降低器件整体损耗。
技术关键词
化学抛光
薄膜
电感耦合等离子体
电子束光刻胶
微纳光电子
二氧化硅衬底
铌酸锂衬底
端面耦合器
偏振消光比
磁控溅射沉积
芯片
光刻套刻
波导侧壁
端面抛光
光刻曝光
刻蚀气体
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