光刻胶仿真模型的评估方法、设备、介质及产品

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光刻胶仿真模型的评估方法、设备、介质及产品
申请号:CN202411571928
申请日期:2024-11-05
公开号:CN119538532B
公开日期:2025-12-12
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种光刻胶仿真模型的评估方法、设备、介质及产品,涉及光刻仿真技术领域。该光刻胶仿真模型的评估方法包括:获取待评估光刻胶仿真模型的光刻胶参数与光学建模文件,光学建模文件中包括用于构建待评估光刻胶仿真模型的原始光学建模参数;根据光刻胶参数与光学建模文件,构建旋转光刻胶仿真模型;将旋转光学建模参数输入至旋转光刻胶仿真模型中,得到旋转图形尺寸;将旋转图形尺寸与基准图形尺寸进行比较,得到尺寸差值,基准图形尺寸为将原始光学建模参数输入至待评估光刻胶仿真模型中得到的图形尺寸;根据尺寸差值,评估待评估光刻胶仿真模型是否存在过拟合现象。
技术关键词
仿真模型 测试光源 尺寸差值 测试版图 计算机程序指令 参数 传感 计算机程序产品 光刻胶成像 电子设备 可读存储介质 基准 处理器 掩膜 频率 轮廓
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