基板处理装置和方法

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基板处理装置和方法
申请号:CN202411580280
申请日期:2024-11-07
公开号:CN120155862A
公开日期:2025-06-17
类型:发明专利
摘要
本发明涉及基板处理装置和方法,基板处理装置可以包括:研磨垫支承部,支承研磨垫,所述研磨垫形成有研磨膜,所述研磨膜对附着于探针卡的探针销的异物进行研磨而进行清洗;研磨垫移送装置,能够将新的研磨垫装载到所述研磨垫支承部或者卸载老旧的研磨垫;以及缓冲模块,能够容纳所述新的研磨垫或者所述老旧的研磨垫。
技术关键词
研磨垫 移送装置 后退装置 缓冲模块 基板 研磨膜 前后左右位置 矩形板形状 升降装置 探针 引导槽部 升降台 螺母部件 机械臂 识别装置 旋转装置 驱动辊 传送带 框架
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