一种半导体工艺机台和工艺方法

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一种半导体工艺机台和工艺方法
申请号:CN202411593207
申请日期:2024-11-08
公开号:CN119446941A
公开日期:2025-02-14
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种半导体工艺机台和工艺方法。机台包括键合头,用于接收待键合的芯片,其中,键合头上设有第一标识,芯片上设有第二标识;视觉组件,位于键合头的上方,以检测第一标识和第二标识的偏移值;磁浮运动平台,位于待键合的晶圆的下方,以驱动键合头在磁浮运动平台进行任意方向的运动;以及控制器,连接键合头、视觉组件以及磁浮运动平台,被配置为:基于视觉组件,获取第一标识和第二标识的偏移值;调整键合头和/或芯片的位姿,以补偿第一标识和第二标识的偏移值;根据晶圆的晶圆图,驱动键合头在磁浮运动平台上运动到目标键合位置;以及键合芯片和晶圆。本发明能够减少中间补偿量,大幅提高产能,而且还能兼容尺寸更小的键合芯片。
技术关键词
半导体工艺机台 半导体工艺方法 运动平台 芯片 平面光栅 标识 光谱共焦传感器 被动减振平台 相机 视觉 磁体 线圈 读数头 计算机 晶圆 光学系统 升降电机 顶针 矫正
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