摘要
本发明公开了一种基于MEMS芯片的清洗设备及清洗方法,设备包括容纳槽,所述容纳槽内容纳有用于对芯片清洗的清洗液,该清洗液可以为水,所述容纳槽的的侧面设有第一进液口和第二进液口,所述第一进液口和所述第二进液口的高度高于所述清洗液的液面高度;所述第一进液口排出的液体为第一溶液,所述第二进液口排出的液体为第二溶液,所述第一清洗液的液面张力和所述第二清洗液的液面张力小于清洗液的液面张力;通过第一进液口和第二进液口在清洗液内排入液体可以形成从下到上为清洗液、第二溶液层和第一溶液层的三层分层液体。本发明通过在清洗液的上形成第二溶液层和第一溶液层进而保证液面平整,避免芯片在清洗过程中受损。
技术关键词
MEMS芯片
清洗液
清洗设备
溶液
清洗方法
液体
分层
密度
流速
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