一种3D耦合表面增强拉曼散射的阵列芯片及制备方法和应用

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一种3D耦合表面增强拉曼散射的阵列芯片及制备方法和应用
申请号:CN202411618370
申请日期:2024-11-13
公开号:CN119688665A
公开日期:2025-03-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种3D耦合表面增强拉曼散射的阵列芯片的制备方法,包括如下步骤:(1)将SiO2微球溶液分散在基底上,自组装形成单层分布的点阵基底;(2)在点阵基底上镀一层金属薄膜,超声清洗,得到表面具有微孔洞的芯片基底;(3)用硅烷化试剂处理芯片基底,制得微孔洞表面带电荷的芯片基底;(4)将金纳米颗粒滴在步骤(3)处理的芯片基底表面,键合,并用碱液除掉金属薄膜,获得金纳米颗粒集聚点阵阵列芯片基底;(5)将步骤(4)处理的芯片基底浸入含有HAuCl4、诱导剂和还原剂的溶液中,进行金纳米线状结构的原位生长反应,获得所述阵列芯片。本发明芯片可实现在生物医学、环境检测和食品安全等领域的应用价值。
技术关键词
芯片 基底 硅烷化试剂 金纳米颗粒 金纳米线 带电荷 阵列 氨丙基三甲氧基硅烷 氨丙基三乙氧基硅烷 巯基苯甲酸 还原剂 溶液 孔洞 原位 薄膜 真空加热 氢氧化钾 单层 超纯水
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